Samsung Electronics está probando las máscaras en blanco EUV domésticas de (101490) de S&S Tech en su entorno de producción en masa en fundición de 4 nm. Esto marca la primera vez que estas máscaras se han introducido en una línea de producción real

El objetivo es reducir la dependencia de Hoya de Japón, fortalecer la resiliencia de la cadena de suministro y obtener más poder de fijación de precios
Se informa que Samsung ha estado dando retroalimentación a S&S Tech para mejorar la calidad, mientras que S&S Tech ya ha invertido mucho en equipos de inspección y en una nueva fábrica en Yongin para apoyar el esfuerzo. Si la localización tiene éxito, Samsung podría ahorrar decenas de miles de millones de wones anualmente y acortar los tiempos de entrega, aunque los pedidos de producción en masa aún podrían tomar desde seis meses hasta más de un año
"Entiendo que las máscaras de S&S Tech se están usando en el proceso EUV, que es relativamente menos exigente incluso dentro del nodo de 4 nm, dijo una fuente de la industria. El hecho de que estén probando muestras en una línea de producción en masa real muestra un fuerte compromiso con la localización." La fuente agregó que Samsung busca reducir su dependencia de Hoya de Japón y, con el tiempo, asegurar un mayor poder de fijación de precios
Una máscara en blanco es el material base para las fotomáscaras utilizadas para transferir patrones de circuitos a las obleas durante la fabricación de semiconductores. Generalmente se fabrica depositando una película delgada de metal o compuesto sobre un sustrato de vidrio de alta pureza. Luego, los fabricantes de chips graban patrones de circuitos en la máscara en blanco para crear la fotomáscara final
Las máscaras en blanco EUV difieren significativamente de los productos tradicionales de ultravioleta profundo, o DUV. Las máscaras en blanco DUV son transmisivas, lo que significa que la luz ultravioleta pasa a través del sustrato para formar patrones en la oblea. Las máscaras en blanco EUV, en cambio, son reflectivas, lo que significa que la luz ultravioleta extrema se refleja en lugar de transmitirse. Se fabrican alternando docenas de capas, alrededor de 40 pares, de molibdeno y silicio sobre un sustrato de vidrio. Debido a la longitud de onda corta del EUV, incluso defectos extremadamente pequeños pueden ser críticos, lo que hace que tanto la fabricación como la inspección sean mucho más exigentes
A principios del año pasado, S&S Tech invirtió más de 40 mil millones de wones en equipos de inspección de Lasertec de Japón para su línea de máscaras en blanco EUV. Se informó que el equipo fue instalado en la nueva fábrica de Yongin, que la compañía completó en octubre del año pasado
Samsung Electronics actualmente importa la mayoría de sus máscaras en blanco EUV de Hoya de Japón. Sin embargo, ha enfrentado problemas de adquisición varias veces en el pasado debido a interrupciones como terremotos en Japón. Aunque Hoya amplió la producción en Singapur para abordar estos problemas, las preocupaciones en la industria de semiconductores han persistido
Las máscaras en blanco EUV cuestan decenas de millones de wones por hoja, mientras que las versiones de alta gama pueden superar los 100 millones de wones. Se informa que Samsung espera ahorros anuales en decenas de miles de millones de wones, junto con tiempos de entrega más cortos, si S&S Tech logra localizar con éxito el suministro
"Entiendo que S&S Tech ahora está trabajando en mejoras para reducir la generación de partículas tras recibir retroalimentación de Samsung Electronics, dijo un funcionario de la industria. Podría tomar desde seis meses hasta más de un año antes de que se emitan los pedidos de producción en masa."